[发明专利]一种制备二维BiOBr薄膜的方法有效
| 申请号： | 201910979410.8 | 申请日： | 2019-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN110616414B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 韩俊峰;王向卓;高云姗;肖文德;姚裕贵 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李微微 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种制备二维BiOBr薄膜的方法，属于卤氧化铋材料的光电催化析氢和有机物降解领域。直接用化学气相沉积的方法，利用BiBr |
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| 搜索关键词： | 一种 制备 二维 biobr 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备二维BiOBr薄膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：/n步骤1、将BiBr
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
