[发明专利]一种亚波长光栅及其制备方法在审
| 申请号： | 201910969924.5 | 申请日： | 2019-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN110658576A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 郝永芹;王凤玲;冯源;李辉;晏长岭;白雪梅;魏志鹏 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;H01S5/183;H01S5/12 |
| 代理公司： | 11430 北京市诚辉律师事务所 | 代理人： | 范盈 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请属于光栅技术领域，特别是涉及一种亚波长光栅及其制备方法。目前用于VCSEL的HCG，其材料通常采用Si/SiO2等材料，可以在提供高反射率的同时达到很大的带宽，但因与广泛使用的GaAs基VCSEL的材料体系不同，需要额外通过PECVD等其他方式进行Si/SiO2等薄膜的制备，且存在由于不同材料体系之间热膨胀系数的差异大而导致材料之间的应力问题以及薄膜的牢固度问题，影响器件的稳定性。本申请提供了一种亚波长光栅，包括依次设置的低折射率亚层、应力缓冲层和高折射率亚波长光栅层。应力缓冲层可有效改善氧化过程产生的收缩应力，这些对提高HCG长期工作的稳定性具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 亚波长光栅 应力缓冲层 材料体系 制备 薄膜 亚波长光栅层 热膨胀系数 低折射率 高反射率 高折射率 光栅技术 收缩应力 氧化过程 依次设置 应力问题 影响器件 重要意义 牢固度 亚层 申请 带宽 | ||
【主权项】：
1.一种亚波长光栅，其特征在于：包括依次设置的低折射率亚层、应力缓冲层和高折射率亚波长光栅层。/n
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