[发明专利]一种通过一步合成基于稠环和苯并噻二唑的高性能共轭小分子半导体材料在审
申请号: | 201910949751.0 | 申请日: | 2019-10-08 |
公开(公告)号: | CN110818723A | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 张国兵;余豪 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | C07D495/04 | 分类号: | C07D495/04;C07D495/22;H01L51/30;H01L51/46;H01L35/24 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230009 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: |
本发明公开了一种通过一步合成基于稠环和苯并噻二唑的高性能共轭小分子半导体材料,依据苯并噻二唑为受体单元,稠环为给体单元,设计一种可溶液处理的共轭小分子半导体材料,具有小分子明确的结构和共轭聚合物优异的成膜性能,利用分子内和分子间的D/A相互作用,结合分子内的非共价相互作用,使整个共轭小分子保持良好的平面性,利于分子的有序堆积,制备的共轭小分子半导体材料有望获得优异的光电性能。可以用于高性能的有机薄膜晶体管器件中,具有高的空穴传输性能,空穴迁移率高达2.0 cm |
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搜索关键词: | 一种 通过 一步 合成 基于 噻二唑 性能 共轭 分子 半导体材料 | ||
【主权项】:
暂无信息
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