[发明专利]锡硼氧氯双折射晶体的应用在审
| 申请号： | 201910921550.X | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110618476A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 潘世烈;郭靖宇;韩树娟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院新疆理化技术研究所 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02;C30B29/10 |
| 代理公司： | 65106 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 张莉 |
| 地址： | 830011 新疆维吾尔*** | 国省代码： | 新疆;65 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种锡硼氧氯双折射晶体的应用，特别是一种用于红外–可见–紫外波段的分子式为Sn | ||
| 搜索关键词： | 双折射晶体 硼氧 双折射率 电光调制器件 偏振分束棱镜 相位延迟器件 光束位移器 光学调制器 光学起偏器 光隔离器 机械硬度 晶胞参数 抛光加工 通讯领域 正交晶系 重要应用 紫外波段 透光 环形器 晶体的 空间群 单胞 可用 制备 应用 切割 保存 制作 | ||
【主权项】：
1.一种锡硼氧氯双折射晶体的应用，其特征在于该晶体在制备光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器或光学调制器中的应用。/n
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