[发明专利]一种光学薄膜沉积设备及方法

摘要

本发明涉及光学薄膜沉积领域，公开了一种光学薄膜沉积设备及方法。光学薄膜沉积设备包括离子源、基片夹具、夹具底座、底座固件、真空室、均匀性修正挡板、气路系统、宽光谱膜厚监控系统；离子源位于真空室的顶部，基片夹具置于离子源下方，基片夹具放置于夹具底座上部，夹具底座置于底座固件内部，底座固件位于真空室底部，均匀性修正挡板设置于离子源与基片夹具之间；气路系统与真空室相连通，气路系统向真空室内运输气体进行薄膜沉积并维持真空室内压强稳定；宽光谱膜厚监控系统与真空室连接，实时监控薄膜沉积的厚度。本发明利用离子束辅助原子层沉积技术，从而对原子层沉积薄膜的应力实现控制，降低薄膜沉积的应力。