[发明专利]一种等离子刻蚀机用二氧化硅去除组件有效
| 申请号： | 201910895067.9 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110648891B | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 吴建湘 | 申请（专利权）人： | 湖北中培电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/30;H01J37/305 |
| 代理公司： | 武汉卓越志诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42266 | 代理人： | 戴宝松 |
| 地址： | 435200 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及硅片加工技术领域，且公开了一种等离子刻蚀机用二氧化硅去除组件，所述托盘的顶部安装有导管，所述导管的内部填充有膨胀液，所述导管的内壁滑动连接有位于膨胀液上方的推动块，所述推动块的端部固定连接有推动杆，所述推动杆的一端固定连接有位于导管上方的储液管。导管与导热孔之间的配合，使得硅片受到化学与物理反应后产生的温度，直接传输至膨胀液，使得膨胀液根据周围的温度自动膨胀上升，从而将溶液通过导流管挤出，滴落至硅片上，使得硅片上吸附的二氧化硅被溶液中和，然后部分溶液通过导管接触膨胀液，使得膨胀液遇冷回归到初始位置，便于溶液的再次挤出，使得硅片再加工时表面始终保持洁净的状态，增加硅片在使用中的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 二氧化硅 去除 组件 | ||
【主权项】：
1.一种等离子刻蚀机用二氧化硅去除组件，包括机体(1)、进气管(2)、托盘(3)、硅片(4)、二氧化硅层(5)，进气管(2)连通在机体(1)的顶部，托盘(3)安装在机体(1)的内部，硅片(4)安装在托盘(3)上，二氧化硅层(5)吸附在硅片(4)的顶部，其特征在于：所述硅片(4)的顶部安装有导管(20)，所述导管(20)的内部填充有膨胀液(7)，所述导管(20)的内壁滑动连接有位于膨胀液(7)上方的推动块(8)，所述推动块(8)的端部固定连接有推动杆(9)，所述推动杆(9)的一端固定连接有位于导管(20)上方的储液管(10)，所述推动杆(9)的一端贯穿并储液管(10)并与储液管(10)的内壁滑动连接，所述储液管(10)的端部固定连接有位于储液管(10)内部的滑动块(11)，所述储液管(10)的内部填充有溶液(12)，所述储液管(10)的侧面连通有导流管(13)，所述储液管(10)的顶部固定连接有支撑板(14)，所述支撑板(14)的底部与硅片(4)的顶部固定连接。/n
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