[发明专利]一种利用金属离子掺杂MoS2 有效
申请号: | 201910867726.8 | 申请日: | 2019-09-14 |
公开(公告)号: | CN110624569B | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
发明(设计)人: | 武利园;李海燕;何娟;梁仓;谭朝洪 | 申请(专利权)人: | 北京建筑大学 |
主分类号: | B01J27/051 | 分类号: | B01J27/051;C02F1/72;C02F101/30 |
代理公司: | 北京众元弘策知识产权代理事务所(普通合伙) 11462 | 代理人: | 孙东风 |
地址: | 100044*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开了一种金属离子参杂MoS |
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搜索关键词: | 一种 利用 金属 离子 掺杂 mos base sub | ||
【主权项】:
1.一种利用金属离子掺杂MoS
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