[发明专利]基板载置机构、成膜装置以及成膜方法在审
| 申请号： | 201910863442.1 | 申请日： | 2019-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN110904421A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供基板载置机构、成膜装置以及成膜方法，能够在成膜装置内高效且均匀地将基板冷却至极低温，并且能够在成膜处理过程中使载置于载置台的基板旋转。基板载置机构具备：载置台，其具有用于载置基板的基板载置面；冷却头，其被设置为与载置台相向，所述冷却头通过冷冻机来被冷却至极低温；接触分离机构，其使载置台与冷却头之间接触分离；旋转机构，其使载置台旋转；以及控制部。除成膜时以外，控制部利用接触分离机构来使载置台与冷却头成为接触的状态，在该状态下将基板载置于载置台，在成膜时，控制部在利用接触分离机构使载置台与冷却头分离的状态下利用旋转机构来使载置台旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 基板载置 机构 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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