[发明专利]薄膜晶体管、显示面板、显示装置在审

专利信息
申请号: 201910851655.2 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN110534580A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 谢蒂旎;朱夏明 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 柴亮;张天舒<国际申请>=<国际公布>=
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管、显示面板、显示装置,属于显示技术领域。本发明的一种薄膜晶体管,包括:基底,设置于基底上的栅极、栅绝缘层、有源层、源极;所述有源层设置于所述栅极与所述有源层之间;所述栅绝缘层设置于所述栅绝缘层与所述有源层之间;所述薄膜晶体管还包括:中间层,其设置于所述源极与所述栅绝缘层之间;所述中间层在所述基底上的正投影落入所述有源层与所述栅绝缘层在所述基底上的正投影的交叠区域内;所述中间层的材料的介电常数大于4。
搜索关键词: 栅绝缘层 源层 基底 薄膜晶体管 中间层 正投影 源极 交叠区域 介电常数 显示面板 显示装置
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,包括:基底,设置于基底上的栅极、栅绝缘层、有源层、源极;所述有源层设置于所述栅极与所述有源层之间;所述栅绝缘层设置于所述栅绝缘层与所述有源层之间;其特征在于,所述薄膜晶体管还包括:/n中间层,其设置于所述源极与所述栅绝缘层之间;且所述中间层在所述基底上的正投影落入所述有源层与所述栅绝缘层在所述基底上的正投影的交叠区域内;/n所述中间层的材料的介电常数大于4。/n
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