[发明专利]光学感测器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201910841681.7 申请日: 2019-09-06
公开(公告)号: CN112466895A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 刘士豪;罗宗仁;廖志成;吕武羲;罗明城;钟伟纶;林志威 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 孙乳笋;周永君
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种光学感测器及其形成方法,该光学感测器包含:衬底、第一阱、第二阱、第三阱、深沟槽隔离结构、以及钝化层。衬底具有第一导电类型且包含感测区。第一阱位于感测区中,其具有第二导电类型以及第一深度。第二阱位于感测区中,其具有第二导电类型以及第二深度。第三阱位于感测区中,其具有第一导电类型以及第三深度。深沟槽隔离结构位于衬底中且围绕感测区,其中深沟槽隔离结构的深度大于第一深度,第一深度大于第二深度,且第二深度大于第三深度。钝化层位于衬底之上,其中钝化层包含多个突出部位于此感测区的正上方,实现提升光学感测器的量子效率。
搜索关键词: 光学 感测器 及其 形成 方法
【主权项】:
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