[发明专利]一种等离子体刻蚀设备的射频源系统在审
| 申请号： | 201910809336.5 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN110444457A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 张杰;孙磊;李全波 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/24 | 分类号： | H01J37/24;H01J37/248;H01J37/30 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体刻蚀设备的射频源系统，该射频源系统包括：射频电源；与该射频电源连接的阻抗电路；与所述阻抗电路连接的负载；所述阻抗电路为包含有电阻、电阻与电容和电感、电阻与电容或电感中的任意一种组合的电路；并且所述电容为可变电容；所述电感为可变电感。本发明通过在干刻设备等离子体射频电源中引入可变电容和电感，达到使负载的阻抗接近射频电源特征阻抗的目的来改善射频电源的存放空间并且节省能耗，同时不影响其激发产生等离子体的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 射频电源 阻抗电路 射频源 电阻 等离子体刻蚀设备 可变电容 电容 等离子体 等离子体射频 存放空间 可变电感 特征阻抗 阻抗 能耗 电路 电源 引入 激发 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体刻蚀设备的射频源系统，其特征在于，该射频源系统至少包括：射频电源；与该射频电源连接的阻抗电路；与所述阻抗电路连接的负载；所述阻抗电路为包含有电阻、电阻与电容和电感、电阻与电容或电感中的任意一种组合的电路；并且所述电容为可变电容；所述电感为可变电感。
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