[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法在审
| 申请号： | 201910799792.6 | 申请日： | 2019-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN110874014A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 畠山润;大桥正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法，包含基础聚合物和由具有经由二价烃基键合至氮原子的碘取代的芳环的铵阳离子以及羧酸根、不含氟的磺酰亚胺、磺酰胺或卤素阴离子组成的铵盐形式的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度和最小的LWR或改进的CDU，而不管其具有正型还是负型。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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