[发明专利]磁头及磁记录再现装置有效
| 申请号： | 201910789284.X | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN111210847B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 首藤浩文;成田直幸;永泽鹤美;高岸雅幸;前田知幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31;G11B5/48 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李智;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供能够提高记录密度的磁头及磁记录再现装置。根据实施方式，磁头包括磁极、第1屏蔽件、磁性层、第1导电层及第2导电层。磁性层设置于磁极与第1屏蔽件之间。第1导电层设置于第1屏蔽件与磁性层之间，与第1屏蔽件及磁性层接触，包含选自由Cu、Ag及Au构成的组的至少1种。第2导电层设置于磁极与磁性层之间。第2导电层包括第1区域及第2区域。第1区域与磁性层接触，包含选自由Cu、Ag、Au、Al、Ti、Ru、Mg及V构成的组的至少1种的第1元素。第2区域设置于第1区域与磁极之间，包含选自由Ta、Pt、W、Mo、Ir、Cr、Tb、Rh及Pd构成的组的至少1种的第2元素。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 记录 再现 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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