[发明专利]磁头及磁记录再现装置有效

专利信息
申请号: 201910789284.X 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN111210847B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 首藤浩文;成田直幸;永泽鹤美;高岸雅幸;前田知幸 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;G11B5/48
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李智;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁头 记录 再现 装置
【权利要求书】:

1.一种磁头,具备:

磁极;

第1屏蔽件;

磁性层,设置于所述磁极与所述第1屏蔽件之间;

第1导电层,设置于所述第1屏蔽件与所述磁性层之间,与所述第1屏蔽件及所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag及Au构成的组的至少1种元素;及

第2导电层,设置于所述磁极与所述磁性层之间,所述第2导电层包括第1区域及第2区域,所述第1区域与所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag、Au、Al、Ti、Ru、Mg及V构成的组的至少1种的第1元素,所述第2区域设置于所述第1区域与所述磁极之间,包含选自由Ta、Pt、W、Mo、Ir、Cr、Tb、Rh及Pd构成的组的至少1种的第2元素。

2.根据权利要求1所述的磁头,

从所述第1屏蔽件向所述磁极流动电流。

3.根据权利要求1所述的磁头,

还具备与所述磁极电连接的第1配线和与所述第1屏蔽件电连接的第2配线。

4.根据权利要求1所述的磁头,

所述第1区域的所述第2区域侧的部分包含所述第2元素。

5.根据权利要求1所述的磁头,

所述第2区域的所述第1区域侧的部分包含所述第1元素。

6.根据权利要求1所述的磁头,

所述磁性层包含Fe及Co,

所述磁性层中的Fe的组分为50atm%以上且95atm%以下。

7.一种磁头,具备:

磁极;

第1屏蔽件;

磁性层,设置于所述磁极与所述第1屏蔽件之间;

第1导电层,设置于所述磁极与所述磁性层之间,与所述磁极及所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag及Au构成的组的至少1种元素;及

第2导电层,设置于所述第1屏蔽件与所述磁性层之间,所述第2导电层包括第1区域及第2区域,所述第1区域与所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag、Au、Al、Ti、Ru、Mg及V构成的组的至少1种的第1元素,所述第2区域设置于所述第1区域与所述第1屏蔽件之间,包含选自由Ta、Pt、W、Mo、Ir、Cr、Tb、Rh及Pd构成的组的至少1种的第2元素。

8.根据权利要求7所述的磁头,

从所述磁极向所述第1屏蔽件流动电流。

9.一种磁记录再现装置,具备:

权利要求1所述的磁头;

磁记录介质,通过所述磁头被记录信息;及

第1电路,能够向所述磁极与所述第1屏蔽件之间供给电流。

10.根据权利要求9所述的磁记录再现装置,

还具备第2电路,

所述磁头还包括线圈,

所述线圈的至少一部分位于所述磁极与所述第1屏蔽件之间,

所述第2电路能够将与所述信息对应的电流向所述线圈供给。

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