[发明专利]磁头及磁记录再现装置有效
| 申请号: | 201910789284.X | 申请日: | 2019-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN111210847B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
| 发明(设计)人: | 首藤浩文;成田直幸;永泽鹤美;高岸雅幸;前田知幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/31 | 分类号: | G11B5/31;G11B5/48 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李智;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁头 记录 再现 装置 | ||
提供能够提高记录密度的磁头及磁记录再现装置。根据实施方式,磁头包括磁极、第1屏蔽件、磁性层、第1导电层及第2导电层。磁性层设置于磁极与第1屏蔽件之间。第1导电层设置于第1屏蔽件与磁性层之间,与第1屏蔽件及磁性层接触,包含选自由Cu、Ag及Au构成的组的至少1种。第2导电层设置于磁极与磁性层之间。第2导电层包括第1区域及第2区域。第1区域与磁性层接触,包含选自由Cu、Ag、Au、Al、Ti、Ru、Mg及V构成的组的至少1种的第1元素。第2区域设置于第1区域与磁极之间,包含选自由Ta、Pt、W、Mo、Ir、Cr、Tb、Rh及Pd构成的组的至少1种的第2元素。
本申请以日本专利申请2018-219270(申请日2018年11月22日)为基础,根据该申请而享受优先的利益。本申请通过参照该申请而包括该申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及磁头及磁记录再现装置。
背景技术
使用磁头向HDD(Hard Disk Drive:硬盘驱动器)等磁存储介质记录信息。在磁头及磁记录再现装置中,期望记录密度的提高。
发明内容
本发明的实施方式提供能够提高记录密度的磁头及磁记录再现装置。
根据本发明的实施方式,磁头包括磁极、第1屏蔽件、磁性层、第1导电层及第2导电层。所述磁性层设置于所述磁极与所述第1屏蔽件之间。所述第1导电层设置于所述第1屏蔽件与所述磁性层之间,与所述第1屏蔽件及所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag及Au构成的组的至少1种。第2导电层设置于所述磁极与所述磁性层之间。所述第2导电层包括第1区域及第2区域。所述第1区域与所述磁性层接触,包含选自由Cu、Ag、Au、Al、Ti、Ru、Mg及V构成的组的至少1种的第1元素。所述第2区域设置于所述第1区域与所述磁极之间,包含选自由Ta、Pt、W、Mo、Ir、Cr、Tb、Rh及Pd构成的组的至少1种的第2元素。
根据上述构成,能够提供能够提高记录密度的磁头及磁记录再现装置。
附图说明
图1的(a)及(b)是例示第1实施方式的磁头的示意性的剖视图。
图2是例示第1实施方式的磁头的动作的示意性的剖视图。
图3是例示磁头的特性的图表。
图4是例示第2实施方式的磁头的示意性的剖视图。
图5是例示实施方式的磁记录再现装置的一部分的示意性的立体图。
图6是例示实施方式的磁记录再现装置的示意性的立体图。
图7的(a)及(b)是例示实施方式的磁记录再现装置的一部分的示意性的立体图。
标号说明
20…层叠体,20D…第1电路,21、22…第1、第2导电层,22a、22b…第1、第2区域,25…磁性层,25M…磁化,30…磁极,30D…第2电路,30F…磁极面,30M…磁化,30c…线圈,30e…端部,30i…绝缘部,31…第1屏蔽件,32…第2屏蔽件,80…磁记录介质,110、119、120…磁头,150…磁记录再现装置,154…悬架,155…臂,156…音圈马达,157…轴承部,158…头万向架组件,159…头滑块,159A…空气流入侧,159B…空气流出侧,160…头堆叠组件,161…支撑框架,162…线圈,180…记录用介质盘,180M…主轴马达,181…记录介质,190…信号处理部,AR…箭头,D1…第1方向,H2…磁场,I1、I2…第1、第2电流,M1…朝向,T1、T2…第1、第2端子,W1、W2…第1、第2配线,t21、t22a、t22b、t25…厚度。
具体实施方式
以下,关于本发明的各实施方式,参照附图来说明。
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