[发明专利]稀释剂组合物、基板处理方法及半导体元件制造方法在审
| 申请号： | 201910734591.8 | 申请日： | 2019-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN110874025A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 李斗元;李相大;李明镐;宋明根 | 申请（专利权）人： | 易案爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦;金相允 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种稀释剂组合物、利用该组合物的基板处理方法及利用该方法的半导体元件制造方法，更详细而言，涉及一种适用于光刻胶减量涂覆、边缘光刻胶去除工艺等，能够减少光刻胶使用量，且能够去除晶片边缘或背面的多余的光刻胶的稀释剂组合物、利用该组合物的基板的处理方法及利用该方法的半导体元件的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 稀释剂 组合 处理 方法 半导体 元件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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