[发明专利]一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法及系统有效
申请号: | 201910725045.8 | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN110458896B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 袁霞;何金龙;罗天 | 申请(专利权)人: | 成都索贝数码科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/80 | 分类号: | G06T7/80;G06F17/16 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 黄蓉蓉 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: |
本发明公开了一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法及系统,涉及相机标定技术领域,本发明包括利用SIFT描述子提取特征像素点,将其转换为相应的特征向量;采用暴力匹配算法将特征向量的对应帧进行匹配;通过八点算法计算匹配帧之间的基础矩阵和极点,得到投影矩阵P;基于投影矩阵P和约束后的内参矩阵K,求得绝对二次曲面 |
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搜索关键词: | 一种 基于 绝对 二次曲面 相机 内参 求解 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法,其特征在于,包括如下步骤:/nS1:利用SIFT描述子提取所采集的视频序列二维图像的特征像素点,将特征像素点转换为相应的特征向量;/nS2:采用暴力匹配算法将特征向量的对应帧进行匹配,得到若干匹配帧;/nS3:通过八点算法计算得到匹配帧之间的基础矩阵和极点,进而得到投影矩阵P;/nS4:对内参矩阵K进行约束,基于投影矩阵P和约束后的内参矩阵K,求得绝对二次曲面 /nS5:对绝对二次曲面 施加强制性约束,使其半正定,求得绝对二次曲面矩阵参数值;/nS6:利用能量函数E对绝对二次曲面矩阵参数值进行优化约束,当能量函数E最小时,得到相机内参最优解。/n
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