[发明专利]一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910725045.8 申请日: 2019-08-07
公开(公告)号: CN110458896B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 袁霞;何金龙;罗天 申请(专利权)人: 成都索贝数码科技股份有限公司
主分类号: G06T7/80 分类号: G06T7/80;G06F17/16
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 黄蓉蓉
地址: 610041 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法及系统,涉及相机标定技术领域,本发明包括利用SIFT描述子提取特征像素点,将其转换为相应的特征向量;采用暴力匹配算法将特征向量的对应帧进行匹配;通过八点算法计算匹配帧之间的基础矩阵和极点,得到投影矩阵P;基于投影矩阵P和约束后的内参矩阵K,求得绝对二次曲面对绝对二次曲面施加强制性约束,使其半正定,求得绝对二次曲面矩阵参数值;利用能量函数E对绝对二次曲面矩阵参数值进行优化约束,当能量函数E最小时,得到相机内参最优解,本发明通过增加可靠的约束,减少了求解难度和提高了自标定结果的准确性。
搜索关键词: 一种 基于 绝对 二次曲面 相机 内参 求解 方法 系统
【主权项】:
1.一种基于绝对二次曲面的相机内参求解方法,其特征在于,包括如下步骤:/nS1:利用SIFT描述子提取所采集的视频序列二维图像的特征像素点,将特征像素点转换为相应的特征向量;/nS2:采用暴力匹配算法将特征向量的对应帧进行匹配,得到若干匹配帧;/nS3:通过八点算法计算得到匹配帧之间的基础矩阵和极点,进而得到投影矩阵P;/nS4:对内参矩阵K进行约束,基于投影矩阵P和约束后的内参矩阵K,求得绝对二次曲面/nS5:对绝对二次曲面施加强制性约束,使其半正定,求得绝对二次曲面矩阵参数值;/nS6:利用能量函数E对绝对二次曲面矩阵参数值进行优化约束,当能量函数E最小时,得到相机内参最优解。/n
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