[发明专利]一种基于电化学沉积的金属微构件互联方法有效

专利信息
申请号: 201910722745.1 申请日: 2019-08-06
公开(公告)号: CN110408978B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 李东洁;许吉勇;杨柳;荣伟彬;俞敏峰;尤波 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D21/12;C25D5/04
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳泉清
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于电化学沉积的金属微构件互联方法,涉及一种金属微构件互联方法。目的是解决焊接对金属微构件进行互联时成功率低的问题。方法:金属微构件与导电基底接触,移液管内填充电解液,电解液为操作对象的金属盐溶液,移液管内电解液中放置导线并连接至电源阳极,导线的材料与沉积金属相同,导电基底连接电源阴极;移液管中的电解液与微构件连接成回路,通电后在阴极即金属微构件处发生还原反应,微构件与移液管之间生成金属沉积,此时金属沉积覆盖在金属微构件上,实现金属微构件之间的互联。互联时不会对金属微构件造成不可逆的损伤,互联的成功率能够达到100%,本发明能够连接多种类型的金属微构件。本发明适用于金属微构件的互联。
搜索关键词: 一种 基于 电化学 沉积 金属 构件 方法
【主权项】:
1.一种基于电化学沉积的金属微构件互联方法,其特征在于:该方法按照以下步骤进行:步骤一、取管嘴半径为rNozzle、管嘴长度为L1的移液管;步骤二、计算稳态电流i;所述稳态电流i的表达式为:公式(1)中,Z是金属微构件的金属离子充电数;F是法拉第常数;D是离子的扩散系数;L1是管嘴长度;c是电解液的浓度;d是管嘴直径;步骤三、计算沉积金属的生长速率v;所述沉积金属的生长速率v的表达式为:公式(2)中,i表示稳态电流;M表示沉积金属的摩尔质量;n表示沉积金属离子的带电数;F为法拉第常数;ρ为沉积金属的密度;Dw为沉积金属的直径;步骤四、计算得到高度为L的沉积金属所需的沉积时间t;步骤五、进行互联将金属微构件置于导电基底上,向移液管内填充电解液,在移液管进口端套设转接套管,转接套管另一端连接进气管,在转接套管侧壁开口,将微电极一端从转接套管侧壁开口插入至电解液内部,然后密封转接套管侧壁开口,微电极另一端连接至电源阳极,导电基底连接电源阴极,将移液管固定到微动平台上,利用微动平台将移液管移动到金属微构件上方;向移液管的进气管通入气体,使移液管管嘴端面的电解液形成凸出的电解液表面,同时利用微动平台降低移液管至凸出的电解液表面接触金属微构件,然后开启电源施加步骤三计算得到的稳态电流i进行沉积,沉积时利用微动平台提升移液管,提升速率与沉积金属的生长速率v相同,达到沉积时间t后撤离移液管,即完成金属微构件互联。
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