[发明专利]一种多量子阱蓝光探测器及制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201910703159.2 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN110459628A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 王文樑;李国强;孔德麒;杨昱辉 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 44102 广州粤高专利商标代理有限公司 代理人: 何淑珍;隆翔鹰<国际申请>=<国际公布>
地址: 510640广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种多量子阱蓝光探测器及制备方法与应用,所述探测器包括从下到上依次排布的衬底、缓冲层和GaN/InGaN多量子阱层,GaN/InGaN多量子阱层的上表面连接金属层电极,缓冲层为从下到上依次排布的AlN层、AlGaN层和GaN层,GaN/InGaN多量子阱层为在缓冲层上依次交替生长的GaN层和InGaN层,交替生长的周期为6~8,GaN层的厚度为12~15 nm,InGaN层的厚度为3~5nm。通过优化探测器件的芯片参数,提升了蓝光波段的量子效率;在探测芯片表面进行蓝光增敏微纳结构设计,有效降低表面对蓝光的反射损耗,增强蓝光谐振吸收,实现高灵敏度高带宽探测。
搜索关键词: 多量子阱层 缓冲层 蓝光 交替生长 排布 蓝光探测器 连接金属层 多量子阱 反射损耗 高灵敏度 蓝光波段 量子效率 探测器件 探测芯片 微纳结构 谐振吸收 芯片参数 电极 高带宽 上表面 探测器 衬底 增敏 制备 探测 优化 应用
【主权项】:
1.一种多量子阱蓝光探测器,其特征在于,包括从下到上依次排布的衬底、缓冲层、GaN/InGaN多量子阱层和金属层电极,缓冲层为从下到上依次排布的AlN层、AlGaN层和GaN层,GaN/InGaN多量子阱层为在缓冲层上依次交替生长的GaN层和InGaN层,交替生长的周期为6~8,GaN层的厚度为12~15 nm,InGaN层的厚度为3~5nm。/n
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