[发明专利]谷胱甘肽响应型双硫键双菁染料及其制备方法与用途

摘要

本发明公开了一种谷胱甘肽响应型双硫键双菁染料及其制备方法与用途。本发明制备的双硫键双菁染料含有对谷胱甘肽响应断裂的双硫键，在响应前，由于聚集作用双染料荧光淬灭，响应后荧光恢复。由于肿瘤细胞内的谷胱甘肽浓度比正常细胞高很多，因此该染料可对肿瘤部位实现较高分辨率的荧光成像，解决了现有菁染料肿瘤部位成像性分辨率差的问题。此外，本发明方法制备的双硫键双菁染料稳定性好、毒性低，可用于分子荧光成像以及肿瘤的光动力、声动力治疗。而且，该染料合成路线短、产率高、易于操作，适用于工业化生产。

主权项

1.一种双硫键双菁染料，是如式I、式II和式III所示的任意一种结构的化合物或它们的任意组合：其中，n为1～3的整数；X为O、S或NH；Y代表卤素离子、PF₆^‑或TsO^‑，当化合物中含有磺酸基时，Y不存在；R₁代表氢、烷基、羟基、卤素、硝基、苄氧基、烷氧基或水溶性基团SO₃M，其中M为H或一价金属离子，位于化合物不同位置处的R₁基团相同或不同；R₂代表烷基、磺酸基、磷酸基、羧基、磺酸基烷基、磷酸基烷基或羧基烷基，位于化合物不同位置处的R₂基团相同或不同。