[发明专利]阵列基板、显示面板和阵列基板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201910567291.5 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN110265412A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 孙宏达;刘凤娟;刘威;张建业 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种阵列基板、包括该阵列基板的显示装置和制造该阵列基板的方法。该阵列基板具有大电容的电容器并且可以允许有效利用其中的空间。该阵列基板包括:基底、遮光部分、薄膜晶体管和电容器。遮光部形成在基底的第一表面上。薄膜晶体管形成在遮光部远离基底的一侧,并且包括有源层。电容器形成在基底的第一表面上,并且包括第一电容电极和第二电容电极。第一电容电极和第二电容电极至少部分地在垂直于基底的第一表面的方向上相对设置。第一电容电极与遮光部分同层设置。并且,有源层在基底的第一表面上的正投影的至少一部分位于遮光部在基底的第一表面上的正投影中。
搜索关键词: 阵列基板 基底 第一表面 电容电极 电容器 遮光部 薄膜晶体管 正投影 源层 遮光 同层设置 显示面板 显示装置 相对设置 大电容 制造 垂直
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括:基底;遮光部,形成在所述基底的第一表面上;薄膜晶体管,形成在所述遮光部远离所述基底的一侧,并且包括有源层;以及电容器,形成在所述基底的所述第一表面上,并且包括第一电容电极和第二电容电极;其中,所述第一电容电极和所述第二电容电极至少部分地在垂直于所述基底的所述第一表面的方向上相对设置;所述第一电容电极与所述遮光部分同层设置;并且所述有源层在所述基底的所述第一表面上的正投影的至少一部分位于所述遮光部在所述基底的所述第一表面上的正投影中。
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