[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201910552123.9 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110349974A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 方亮;丁玎 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。一方面,本发明有利于改善电压下降、发光亮度不均等异常现象;另一方面,本发明通过节省一道平坦层制程光罩,避免下层平坦层被大面积蚀刻导致再覆盖上层平坦层时产生膜脱落异常现象,提升显示装置的可靠性。
搜索关键词: 显示装置 平坦层 异常现象 阵列基板 制备 蚀刻 电压下降 膜脱落 光罩 制程 下层 发光 上层 覆盖
【主权项】:
1.一种阵列基板,其定义有显示区和弯折区,其特征在于,包括:基板;缓冲层,所述缓冲层设置于所述基板上;有源层,所述有源层设置于所述显示区的缓冲层上,所述有源层包括主体部和两个侧部;以及第一源漏极层,所述第一源漏极层包括第一源极和第一漏极,所述第一源极和第一漏极分别搭接于所述有源层的两个侧部上。
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