[发明专利]适用于在变温环境下操作的集成电子器件在审
| 申请号: | 201910475230.6 | 申请日: | 2019-06-03 |
| 公开(公告)号: | CN110556372A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
| 发明(设计)人: | P·加利;R·勒蒂克 | 申请(专利权)人: | 意法半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H03K17/687 |
| 代理公司: | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华;傅远 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
| 权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
| 摘要: | 本公开的实施例涉及适用于在变温环境下操作的集成电子器件。一种集成电子器件包括绝缘体上硅(SOI)衬底。在SOI衬底中和上形成至少一个MOS晶体管。该至少一个MOS晶体管具有栅极区域,其接收控制电压;背栅极,其接收调整电压;源极/漏极区域,其具有电阻部分;第一端子,其耦合到第一电压(例如,参考电压)并且形成在源极/漏极区域中和电阻部分的第一侧上;以及第二端子,其生成代表集成电子器件的温度的电压,该第二端子形成在源极/漏极区域中和电阻部分的第二侧上。调整电路将调整电压生成为具有取决于控制电压和第二端子所生成的电压的值。 | ||
| 搜索关键词: | 源极/漏极区域 集成电子器件 电阻 调整电压 中和 衬底 接收控制电压 绝缘体上硅 参考电压 调整电路 控制电压 栅极区域 背栅极 耦合到 变温 | ||
【主权项】:
1.一种集成电子器件,包括:/n绝缘体上硅衬底,/n至少一个MOS晶体管,被形成在所述绝缘体上硅衬底中和所述绝缘体上硅衬底上;/n其中所述至少一个MOS晶体管包括:/n栅极区域,被配置为接收控制电压;/n背栅极,被配置为接收调整电压;/n源极或漏极区域,具有电阻部分;/n第一端子,被配置为被耦合到第一电压,并且被形成在所述源极或漏极区域中、以及所述源极区域或漏极区域的所述电阻部分的第一侧上;以及/n第二端子,被配置为生成表示所述集成电子器件的温度的电压,所述第二端子被形成在所述源极或漏极区域中、以及所述源极或漏极区域的所述电阻部分的第二侧上;以及/n调整电路,被配置为将所述调整电压生成为具有取决于所述控制电压和由所述第二端子生成的所述电压的值。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体有限公司,未经意法半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910475230.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





