[发明专利]用于制备大面积金刚石薄膜的热壁热丝CVD的装置在审
申请号: | 201910474119.5 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN110079786A | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 杭州睿清环保科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/448 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310000 浙江省杭州市杭州经济*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制备大面积金刚石薄膜的热壁热丝CVD的装置,包括包括密闭的反应腔室(1),绝热壁(2),反应腔室密封法兰前盖(3),反应腔室密封法兰后盖(4),热丝支架(5),样品支架(6),反应气瓶(13),电源(12),真空泵(11),冷却循环水机(14),热丝(10),隔热前置挡板(9),隔热后置挡板(7)和电阻丝(8)。由于绝热壁(2)与反应腔室(1)直接安置了用于加热的电阻丝(8),可以实现整个腔室的温度均匀的维持在700℃以上。与现有的技术相比,本发明能够实现大面积的金刚石薄膜的生产,提升了大面积的金刚石薄膜的质量。 | ||
搜索关键词: | 反应腔室 大面积金刚石薄膜 金刚石薄膜 挡板 密封法兰 热丝CVD 电阻丝 绝热壁 隔热 热壁 制备 冷却循环水机 后盖 反应气瓶 热丝支架 温度均匀 样品支架 真空泵 密闭 后置 前盖 前置 腔室 热丝 加热 电源 安置 生产 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备大面积金刚石薄膜的热壁热丝CVD的装置,其特征在于,该装置包括密闭的反应腔室(1),绝热壁(2),反应腔室密封法兰前盖(3),反应腔室密封法兰后盖(4),热丝支架(5),样品支架(6),反应气瓶(13),热丝(10),隔热前置挡板(9),隔热后置挡板(7),电阻丝(8),冷却循环水机(14),真空泵(11)和直流电源(12);反应腔室(1)的前后两端分别与反应腔室密封法兰前盖(3)和反应腔室密封法兰后盖(4)相连,并置于绝热壁(2)内;在反应腔室(1)与绝热壁(2)之间的界面处设有用于加热的电阻丝(8);反应腔室密封法兰前盖(3)上还设有供反应气体通入的进气口(301),电极接线柱(302),进水口(303),出水口(304);进气口(301)与反应气瓶(13)相连,接线柱(302)与直流电源(12)相连,进水口(303)和出水口(304)与循环冷却水机(14)相连;反应腔室密封法兰后盖(4)上设有用于真空泵抽气的排气口(401),进水口(402)和水口(403);排气口(401)与真空泵(11)的抽气口相连,进水口(402)和出水口(403)与循环水机(14)相连;隔热前置挡板(9)安置在反应腔室密封法兰前盖(3)的朝向反应腔室一侧,置于反应前腔室(1)内;隔热前置挡板(9)上设有与电极接线柱相对应的孔,用于电极柱上的导线穿过隔热前置挡板(9)与热丝(10)相连接;隔热后置挡板(7)安置在反应腔室密封法兰后盖(4)的朝向反应腔室一侧,置于反应前腔室(1)内;热丝(10 )按照1‑7 cm的间距,串联连接在热丝支架上(5);热丝支架(5)和样品支架(6)从上往下间隔1‑3cm依次交错排列,并垂直固定在所述的隔热前置挡板(9)上,且置于密闭的反应腔室内(1)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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