[发明专利]一种容性耦合结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201910470887.3 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110165345B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 何钟鑫;肖利蒙;黄伟杰;龙志勇;杨继聪;黄万强 | 申请（专利权）人： | 广东国华新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01P1/20 | 分类号： | H01P1/20;H01P11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种容性耦合结构及其制备方法，其中，所述容性耦合结构在两个所述谐振腔的耦合连接位置背离盲孔结构一侧设置了至少贯穿所述金属层的耦合调节区域，使得具有所述容性耦合结构的介质波导滤波器在进行容性耦合调节时，可以通过调试耦合调节区域的面积大小和/或伸入介质外壳的深度的方式实现。避免了调节盲孔深度受到的盲孔孔径很小且深度较深的限制，使得介质波导滤波器的容性耦合调试过程的难度降低，且增加了对容介质波导滤波器的容性耦合的调节精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耦合 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种容性耦合结构，其特征在于，应用于介质波导滤波器，所述介质波导滤波器包括至少两个谐振腔，每个所述谐振腔由介质外壳和包覆所述介质外壳的金属层构成，且至少两个谐振腔彼此耦合连接，所述容性耦合结构包括：位于两个所述谐振腔的耦合连接位置一侧表面的盲孔结构，所述盲孔结构的外侧表面覆盖有所述金属层；位于两个所述谐振腔的耦合连接位置背离所述盲孔结构一侧，且至少贯穿所述金属层的耦合调节区域；所述耦合调节区域与所述盲孔结构相对设置。
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