[发明专利]处理半导体工艺产生的有害特种废气的装置在审
| 申请号： | 201910470143.1 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN112007466A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 汪涛;张新云 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/00 | 分类号： | B01D53/00;C01B3/04;C22B30/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 102200 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种处理半导体工艺产生的有害特种废气的装置，包括加热装置、冷却装置和除污组件，其中，加热装置与工业设备的废气排出口连接，用于对自工业设备的废气排出口排入至其中的废气进行加热，并从废气中加热分解出气态污染物；冷却装置与加热装置连接，用于将加热分解后的气态污染物冷却凝结至固态污染物；除污组件设置在冷却装置内，用于去除凝结在冷却装置上的固态污染物。本发明提供的处理半导体工艺产生的有害特种废气的装置能够避免气流通道的阻塞，提高废气处理的便捷性，提高废气处理的效率，并能够减少水资源的利用，降低废气处理的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 半导体 工艺 产生 有害 特种 废气 装置 | ||
【主权项】：
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