[发明专利]平面光栅标定系统有效
| 申请号： | 201910405697.3 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN110132550B | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 王磊杰;张鸣;朱煜;郝建坤;李鑫;成荣;杨开明;胡金春 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/04 | 分类号： | G01M11/04;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 张超艳;董永辉 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光学计量技术领域，公开了一种平面光栅标定系统，该系统包括光学子系统、机架、第一隔振器、真空吸盘、工件台、第二隔振器和基底；所述光学子系统安装在机架上，机架采用第一隔振器隔振；真空吸盘可转动地安装在工件台上，工件台位于基底上，基底采用第二隔振器隔振。本发明采用光学子系统与工件台独立隔振方式，避免工件台移动时产生的振动传递到光学子系统，消除了因光学子系统振动所产生的误差，提高了平面光栅标定的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 光栅 标定 系统 | ||
【主权项】：
1.一种平面光栅标定系统，其特征在于：该系统包括光学子系统、机架、第一隔振器、真空吸盘、工件台、第二隔振器和基底；所述光学子系统安装在机架上，机架采用第一隔振器隔振；真空吸盘可转动地安装在工件台上，工件台位于基底上，基底采用第二隔振器隔振。
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