[发明专利]一种测量介质材料二次电子发射系数的方法有效
申请号: | 201910405418.3 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN110146529B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 温凯乐;刘术林;闫保军;王玉漫 | 申请(专利权)人: | 中国科学院高能物理研究所 |
主分类号: | G01N23/22 | 分类号: | G01N23/22 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人: | 司立彬 |
地址: | 100049 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种测量介质材料二次电子发射系数的方法,其步骤包括:1)将待测介质材料放置在金属样品台上;将金属样品台、栅网、收集极的输出端口与采集装置输入端口连接,且金属样品台、栅网所施加电压与电子枪出射口电压相同,收集极电位高于金属样品台电位;2)调整电子枪参数,使电子束斑的照射金属样品台表面,并持续照射设定时间;3)将电子枪出射的电子能量调节至需要测试的能量,将初级电子束的照射位置调节至介质材料表面,使电子枪发射脉冲电子束,测量并计算金属样品台、栅网、收集极各通路脉冲电流I |
||
搜索关键词: | 一种 测量 介质 材料 二次电子 发射 系数 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测量介质材料二次电子发射系数的方法,其步骤包括:1)将待测介质材料放置在金属样品台上,将该金属样品台升入收集极中并对真空腔体抽真空;2)将金属样品台、栅网、收集极的输出端口与电信号采集装置输入端口连接,且金属样品台、栅网所施加电压与电子枪出射口电压相同,收集极电位高于金属样品台电位设定值;3)调整电子枪参数,使电子束斑照射位置为金属样品台表面,使电子枪发射电子束并持续照射设定时间,从而用金属样品台产生的低能二次电子对介质材料表面的正电荷进行充分中和;4)将电子枪出射的电子能量调节至需要测试的能量,将电子枪出射的初级电子束的照射位置调节至介质材料表面,并将电子枪的工作状态调节为脉冲工作模式;5)使电子枪发射脉冲电子束,测量并计算金属样品台、栅网、收集极各通路脉冲电流,即金属样品台脉冲电流I1、栅网脉冲电流I2、收集极脉冲电流I3;6)通过公式δ=(I2+I3)/(I1+I2+I3)计算当前电子入射能量下,该介质材料的二次电子发射系数δ;7)改变入射电子能量,重复步骤3)~6),直到所有待测量的入射能量下的二次电子发射系数均测量完毕为止。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院高能物理研究所,未经中国科学院高能物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910405418.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。