[发明专利]多色膜的制备方法及显示面板在审
申请号: | 201910378686.0 | 申请日: | 2019-05-08 |
公开(公告)号: | CN110128029A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 张迅;易伟华;郑芳平;徐彬彬;洪华俊 | 申请(专利权)人: | 江西沃格光电股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42;C03C17/38;C08J7/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35;G09F9/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘玉花;景怀宇 |
地址: | 338004 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本申请提供一种多色膜的制备方法及显示面板。所述多色膜的制备方法包括将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面。所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台。在真空磁控溅射过程中,所述靶材以分子或原子的形态分布。所述靶材在所述基板上沉积为薄膜层的过程中,受到所述磁体的磁场影响,会形成厚度均匀递变的薄膜层。由于所述薄膜层的厚度是无台阶渐变的,光在通过所述薄膜层时,光的反射率、折射率、色散等参数连续渐变,使得通过所述多色膜的制备方法制备的所述多色膜可以形成各种各样的渐变色膜。所述多色膜的制备方法有效避免了调试方式单一,多色膜的色彩单调的问题。 | ||
搜索关键词: | 多色 制备 薄膜层 基板 固定设置 显示面板 渐变 靶材 磁控溅射系统 真空磁控溅射 磁场影响 厚度均匀 反射率 渐变色 折射率 靶台 色散 沉积 调试 单调 申请 | ||
【主权项】:
1.一种多色膜的制备方法,采用磁控溅射系统(10)实现所述制备方法,其特征在于,包括:S10,提供至少一块磁体(201)和一块基板(101),将至少一块所述磁体(201)固定设置于所述基板(101)的一面;S20,将固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)固定于所述磁控溅射系统(10)中的样品台上,所述固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)的一面背向所述磁控溅射系统(10)中的靶台;S30,提供至少一种靶材(310),将所述靶材(310)固定设置于所述靶台,利用磁控溅射法在所述基板(101)上形成至少一层薄膜层(110),所述薄膜层(110)的厚度无台阶渐变。
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