[发明专利]一种含硒化合物及其制备方法与用途

摘要

本发明公开了一种含硒化合物及其制备方法与用途，其中该化合物具有式(Ⅰ)结构，其中，n为0、1；L1选自以下一种或多种基团：氢、卤素、C1‑C6烷氧基；L2选自以下一种或多种基团：氢、取代或未取代的C1‑C6烷基；L3选自以下一种或多种基团：取代或未取代的C1‑C6烷基、苯C1‑C6烷基、取代或未取代的C5‑C6芳基、取代或未取代的C5‑C6杂芳基；L4选自取代或未取代的苯基；L5选自以下一种或多种基团：氢、卤素、取代或未取代的C1‑C6烷基；L6选自以下一种或多种基团：氢、取代或未取代的C1‑C6烷基；本发明还包括了上述化合物的制备方法；本发明还包括了上述化合物的用途。本发明含硒化合物具有多样性，且有抑菌性能，制备方法解决了步骤繁琐，底物的官能团不耐受等问题。

主权项

1.一种含硒化合物，或其立体异构体、溶剂化物、水合物、药学上可接受的盐或共晶，其特征在于，该化合物具有式(Ⅰ)结构，其中，n为0或1；其中，L₁选自以下一种或多种基团：氢、卤素、C₁‑C₆烷氧基；L₂选自以下一种或多种基团：氢、取代或未取代的C₁‑C₆烷基；L₃选自以下一种或多种基团：取代或未取代的C₁‑C₆烷基、苯C₁‑C₆烷基、取代或未取代的C₅‑C₆芳基、取代或未取代的C₅‑C₆杂芳基；L₄选自取代或未取代的苯基；L₅选自以下一种或多种基团：氢、卤素、取代或未取代的C₁‑C₆烷基；L₆选自以下一种或多种基团：氢、取代或未取代的C₁‑C₆烷基；上述L₁～L₆取代基团的取代基选自：卤素、C₁‑C₆烷基、卤代C₁‑C₆烷基、C₁‑C₆烷氧基。