[发明专利]硅单晶的制造方法及硅单晶的提拉装置有效
申请号: | 201910334491.6 | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN110408991B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 金原崇浩;片野智一 | 申请(专利权)人: | 胜高股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 殷超;谭祐祥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在使用提拉装置制造硅单晶的硅单晶的制造方法中,将在提拉中被导入到提拉装置内的气体从形成在加热器(5)的背面上的中部排气口(16A)排气,所述提拉装置具备:腔室;设置在腔室内的石英坩堝(3A);和加热器(5),其以将石英坩堝(3A)包围的方式配置,并将石英坩堝(3A)加热。 | ||
搜索关键词: | 硅单晶 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种硅单晶的制造方法,使用提拉装置制造硅单晶,所述提拉装置具备:腔室;石英坩堝,其设置在前述腔室内;和加热器,其以将前述石英坩堝包围的方式配置,并将前述石英坩堝加热,其特征在于,将在提拉中被导入到前述提拉装置内的气体从前述加热器的背面排气。
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