[发明专利]一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关有效

专利信息
申请号: 201910323856.5 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN109994568B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 栾崇彪;赵娟;李洪涛;肖金水;马勋;黄宇鹏 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
主分类号: H01L31/115 分类号: H01L31/115;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 绵阳山之南专利代理事务所(普通合伙) 51288 代理人: 沈强
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关,包括SiC衬底、GaN基层、厚度不均匀的AlGaN层、高浓度GaN掺杂层和欧姆接触金属层,GaN基层与AlGaN层构成势阱结构,不同厚度的AlGaN层堆栈结构通过刻蚀实现,掺杂层为AlGaN层上生长的一层高掺杂浓度n+‑GaN层,n+‑GaN掺杂层表面淀积有欧姆接触金属层,堆栈结构可以实现电极间电场的均匀分布,不同的AlGaN层厚度周期结构可以提高载流子迁移率;本发明的堆栈结构激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关的工作电压达到42kV,导通电阻为22Ω,可以拓展其在固态脉冲功率领域应用。
搜索关键词: 一种 堆栈 结构 激光 触发 大功率 绝缘 algan gan 开关
【主权项】:
1.一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关,其特征在于包括: SiC衬底、GaN基层、厚度不均匀的AlGaN层、高浓度GaN掺杂层和欧姆接触金属层;所述GaN基层与AlGaN层构成势阱结构,所述AlGaN层通过MOCVD的方法外延生长在所述GaN基层上,不同厚度的AlGaN层堆栈结构通过刻蚀实现;所述掺杂层为AlGaN层上生长的一层高掺杂浓度n+‑GaN层,所述n+‑GaN掺杂层表面淀积有欧姆接触金属层,所述堆栈结构可以实现电极间电场的均匀分布,不同的AlGaN层厚度周期结构可以提高载流子迁移率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院流体物理研究所,未经中国工程物理研究院流体物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910323856.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top