[发明专利]一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关有效
申请号: | 201910323856.5 | 申请日: | 2019-04-22 |
公开(公告)号: | CN109994568B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 栾崇彪;赵娟;李洪涛;肖金水;马勋;黄宇鹏 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
主分类号: | H01L31/115 | 分类号: | H01L31/115;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 绵阳山之南专利代理事务所(普通合伙) 51288 | 代理人: | 沈强 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关,包括SiC衬底、GaN基层、厚度不均匀的AlGaN层、高浓度GaN掺杂层和欧姆接触金属层,GaN基层与AlGaN层构成势阱结构,不同厚度的AlGaN层堆栈结构通过刻蚀实现,掺杂层为AlGaN层上生长的一层高掺杂浓度n |
||
搜索关键词: | 一种 堆栈 结构 激光 触发 大功率 绝缘 algan gan 开关 | ||
【主权项】:
1.一种堆栈结构的激光触发大功率半绝缘AlGaN/GaN开关,其特征在于包括: SiC衬底、GaN基层、厚度不均匀的AlGaN层、高浓度GaN掺杂层和欧姆接触金属层;所述GaN基层与AlGaN层构成势阱结构,所述AlGaN层通过MOCVD的方法外延生长在所述GaN基层上,不同厚度的AlGaN层堆栈结构通过刻蚀实现;所述掺杂层为AlGaN层上生长的一层高掺杂浓度n+‑GaN层,所述n+‑GaN掺杂层表面淀积有欧姆接触金属层,所述堆栈结构可以实现电极间电场的均匀分布,不同的AlGaN层厚度周期结构可以提高载流子迁移率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院流体物理研究所,未经中国工程物理研究院流体物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910323856.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光伏组件
- 下一篇:一种基于功率预测的太阳能光伏组件生产控制方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的