[发明专利]一种具有高击穿强度的芳杂环聚酰胺复合薄膜及制备方法有效
| 申请号： | 201910315119.0 | 申请日： | 2019-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN109942810B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 刘向阳;戴宇;罗龙波;王旭;刘洋;朱波;刘昌莉 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C08G69/32 | 分类号： | C08G69/32;C08J5/18;C08L77/10;C08L51/10;C08F292/00;C08F220/02 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡;张娟 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种芳香族聚酰胺，所述芳香族聚酰胺是以芳香族二胺和芳香族二酰氯反应得到的酰胺为重复结构单元，分子链两端为烯基的聚合物；所述芳香族聚酰胺的结构为： |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 击穿 强度 芳杂环 聚酰胺 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种芳香族聚酰胺，其特征在于：所述芳香族聚酰胺是以芳香族二胺和芳香族二酰氯反应得到的酰胺为重复结构单元，分子链两端为烯基的聚合物；所述芳香族聚酰胺的结构为：![]()
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其中，![]()
为所述芳香族二胺两端各去掉一个氢原子后剩余的基团，![]()
为所述芳香族二酰氯两端各去掉一个氯原子后剩余的基团，![]()
为所述重复结构单元，D、E各自独立地选自![]()
其中，L选自0‑6个亚甲基；m、n为聚合度，m、n各自独立地选自20‑200。
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