[发明专利]一种AlGaN基3D倒装焊MSM阵列紫外探测器的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910308276.9 申请日: 2019-04-17
公开(公告)号: CN110047968A 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 汪炼成;李滔;林蕴 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/0236;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 长沙永星专利商标事务所(普通合伙) 43001 代理人: 何方
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种AlGaN基3D倒装焊MSM阵列紫外探测器的制备方法,属于半导体技术领域,包括:(1)在衬底上外延生长AlXGa1‑XN紫外光吸收层;(2)在AlXGa1‑XN紫外光吸收层上进行光刻,形成沟槽;(3)在AlXGa1‑XN紫外光吸收层的沟槽内沉积叉指电极;(4)对衬底背面进行抛光;(5)在基板上采用版图制作基板电路;(6)在基板电路上制作焊接微凸点;(7)把紫外探测器倒转,将叉指电极两端的pad区域与微凸点焊连;本发明制作工艺简单,倒装焊技术成熟,成本低,易于实施,可以大规模推广;本发明通过叉指电极沉积在吸收层内部沟槽中,减少了光生载流子迁移时间,在外加电场作用下,提高载流子的迁移速度和收集效率,从而提高探测器的灵敏度,降低响应时间。
搜索关键词: 紫外光吸收层 紫外探测器 叉指电极 倒装焊 基板电路 沉积 制备 载流子 迁移 半导体技术领域 光生载流子 衬底背面 收集效率 外加电场 外延生长 制作工艺 倒转 灵敏度 抛光 微凸点 吸收层 探测器 衬底 点焊 光刻 基板 微凸 制作 焊接 响应 成熟
【主权项】:
1.一种AlGaN基3D倒装焊MSM阵列紫外探测器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在衬底上外延生长AlXGa1‑XN紫外光吸收层;(2)在AlXGa1‑XN紫外光吸收层上进行光刻,刻蚀沟槽;(3)在AlXGa1‑XN紫外光吸收层的沟槽内沉积叉指电极,叉指电极包括左边叉指电极、右边叉指电极,两叉指电极两端都设有大面积pad区域,得到紫外探测器;(4)对衬底背面进行抛光;(5)在基板上采用版图制作基板电路;(6)在基板电路上制作焊接微凸点;(7)把紫外探测器倒转,将叉指电极两端的pad区域与微凸点焊连,在基板电路上焊接多个紫外探测器,得到所述AlGaN基3D倒装焊MSM阵列紫外探测器。
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