[发明专利]磁控管驱动机构、工艺腔室和半导体处理设备有效
| 申请号： | 201910294541.2 | 申请日： | 2019-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN111816537B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 兰玥;侯珏 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控管驱动机构、工艺腔室和半导体处理设备。包括第一旋转臂，设置有第一旋转轴和第二旋转轴，第一旋转轴与第一驱动源相连；第二旋转臂，与第二旋转轴连接且固定设置有磁控管；传动机构，其包括第一主动轮和第一从动轮，第一主动轮与第一旋转轴连接，第一从动轮与第二旋转轴连接；至少一个传动比改变机构，分别与第一主动轮和第一从动轮传动连接，并且，传动比改变机构能够改变其与第一主动轮、第一从动轮的接触位置，以改变传动机构的传动比。这样，利用所设置的传动比改变机构，可以不必更改传动机构的结构，实现其传动比的改变，从而可以改变磁控管的运动轨迹，实现全靶腐蚀，进而可以提高晶片的加工良率，降低制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 驱动 机构 工艺 半导体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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