[发明专利]转台相交度和垂直度测量装置与方法在审

专利信息
申请号: 201910276846.0 申请日: 2019-04-08
公开(公告)号: CN110057323A 公开(公告)日: 2019-07-26
发明(设计)人: 李艳红;柴娟芳;赵吕懿;朱炜;陈强华;荆娜;沈涛;张琰;冯晓晨;田义;杨扬 申请(专利权)人: 上海机电工程研究所
主分类号: G01B11/26 分类号: G01B11/26;G01C25/00
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 庄文莉
地址: 201100 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种转台相交度和垂直度测量装置与方法,所述转台相交度和垂直度测量方法包含以下步骤:分光步骤:将双频总光线分光成多路双频子光线;干涉光路形成步骤:使用双频子光线对转台进行测量,获得参考光与测量干涉光路;转台检测步骤:根据参考光与测量干涉光路的相位差,得到位移测量信号,根据多个测量干涉光路对应的位移测量信号,得到转台的相交度和/或垂直度。本发明使用一个公共靶标,大大优化了多轴转台的测量过程,且靶标的安装与拆卸不需拆卸转台本身。
搜索关键词: 转台 干涉光路 相交 测量 双频 垂直度测量装置 位移测量信号 参考光 分光 拆卸 垂直度测量 测量过程 垂直度 相位差 靶标 多路 多轴 检测 优化
【主权项】:
1.一种转台相交度和垂直度测量方法,其特征在于,包含以下步骤:分光步骤:将双频总光线(610)分光成多路双频子光线(620);干涉光路形成步骤:使用双频子光线(620)对转台(520)进行测量,获得参考光(630)与测量干涉光路(650);转台(520)检测步骤:根据参考光(630)与测量干涉光路(650)的相位差,得到位移测量信号,根据多个测量干涉光路(650)对应的位移测量信号,得到转台(520)的相交度和/或垂直度。
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