[发明专利]沉积掩膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201910271989.2 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN110872685A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 金仁培;金佑荣;黄圭焕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;B23K26/382;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;孙昌浩 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种沉积掩膜及其制造方法。本发明的一实施例公开了一种沉积掩膜制造方法，包括如下步骤：在基底层的一整面形成金属镀覆层；进行热处理以使所述金属镀覆层的晶粒变大；以及在所述金属镀覆层上照射激光,从而打通贯穿至所述基底层的图案孔。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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