[发明专利]一种检测薄膜厚度的方法及装置在审
| 申请号： | 201910270922.7 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN110017798A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 周海龙;季振国;俞峰;张永夫;丁靓;蔡好 | 申请（专利权）人： | 浙江上方电子装备有限公司;杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 沈自军 |
| 地址： | 312366 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检测薄膜厚度的方法及装置，所述方法包括以下步骤：将相同能量和强度的电子束投射在参比样品和待测样品上，激发样品发出X射线荧光；采集得到两样品中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度；根据两所述强度的比值与薄膜厚度的关系式计算得到所述薄膜的厚度；当采用空白衬底作为参比样品，则采集衬底中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度；当采用与薄膜同材质的块体标样作为参比样品，则采集薄膜中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度。本发明可以通过调节入射电子束能量和角度以适应0.1nm‑100mm大范围内的厚度测量。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 参比样品 特征能量 种检测 采集 衬底 电子束 电子束能量 关系式计算 发出X射线 待测样品 厚度测量 同材质 荧光 标样 块体 入射 投射 激发 | ||
【主权项】：
1.一种检测薄膜厚度的方法，所述薄膜沉积在衬底上，其特征在于，所述检测方法包括以下步骤：将相同能量和强度的电子束投射在参比样品和待测样品上，激发样品发出X射线荧光；采集得到两样品中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度；根据两所述强度的比值与薄膜厚度的关系式计算得到所述薄膜的厚度；当采用空白衬底作为参比样品，则采集衬底中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度；当采用与薄膜同材质的块体标样或厚膜样品作为参比样品，则采集薄膜中靶元素对应的X射线荧光特征能量的强度。
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