[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板有效
申请号: | 201910252793.9 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN109799641B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 廖力勍;李红敏;王栋 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230012 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板,涉及显示技术领域,可以提高液晶显示面板的对比度和开口率。阵列基板包括位于显示区的多个亚像素区以及用于界定多个亚像素区的非透光区,阵列基板包括依次设置在第一衬底上的反射层、透明的第一调光图案以及第一配向层;第一调光图案与所述第一配向层、所述反射层均接触;反射层至少包括位于亚像素区的部分;第一调光图案至少位于亚像素区中的边缘区域,在反射层还延伸至非透光区的情况下,第一调光图案在第一衬底上的正投影覆盖反射层位于非透光区的部分在第一衬底上的正投影;其中,第一调光图案用于和第一配向层一起对射到反射层上的环境光相干减弱。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 液晶显示 面板 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括位于显示区的多个亚像素区以及用于界定多个所述亚像素区的非透光区,其特征在于,所述阵列基板包括依次设置在第一衬底上的反射层、透明的第一调光图案以及第一配向层;所述第一调光图案与所述第一配向层、所述反射层均接触;所述反射层至少包括位于所述亚像素区的部分;所述第一调光图案至少位于所述亚像素区中的边缘区域;在所述反射层还延伸至所述非透光区的情况下,所述第一调光图案在所述第一衬底上的正投影覆盖所述反射层位于所述非透光区的部分在所述第一衬底上的正投影;其中,所述第一调光图案用于和所述第一配向层一起对射到所述反射层上的环境光相干减弱。
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