[发明专利]一种内嵌式触控阵列基板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种内嵌式触控阵列基板及其制造方法，属于液晶显示制造领域，本发明通过在源极、漏极和半导体层使用第一次半色调掩膜版，在第一透明电极层和触控金属层使用第二次半色调掩膜版，减少了阵列基板在制造过程中的总的光罩使用数量，同时提升显示面板的开口率，提高显示效果，同时能够降低生产成本，提升生产效率，同时可以减少光阻残留风险。

主权项

1.一种内嵌式触控阵列基板的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：第一步，在玻璃基板上形成第一金属层，通过曝光、显影和刻蚀形成位于端子区的扫描线以及位于像素区的栅极；第二步，形成覆盖扫描线和栅极的栅极绝缘层；第三步，依次形成半导体层和第二金属层，通过半色调掩膜版对半导体层和第二金属层进行多阶曝光，显影和刻蚀形成位于端子区的数据线以及位于像素区的源极、漏极和沟道区；第四步，依次形成第一绝缘层和有机绝缘层，通过曝光、显影和刻蚀有机绝缘层分别形成位于像素区的第一接触孔和端子区的第二接触孔，在第一接触孔和第二接触孔中暴露出第一绝缘层，在第一接触孔和第二接触孔内进一步进行曝光和刻蚀，刻蚀掉第一接触孔内的全部第一绝缘层以及第二接触孔中部分第一绝缘层和部分栅极绝缘层；第五步，依次形成第一透明电极层和第三金属层，并通过半透掩膜版对第一透明电极层和第三金属层进行多阶曝光，显影和刻蚀形成位于像素区的像素电极和触控传感器连接线以及端子区的导通线；第六步，形成第二绝缘层，通过曝光、显影和刻蚀露出像素区的触控传感器连接线和端子区的数据线上方的导通线；第七步，形成第二透明电极，曝光、显影和刻蚀形成独立的公共电极。