[发明专利]溅射成膜装置及其溅射成膜方法、化合物薄膜在审
| 申请号： | 201910129730.4 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111593309A | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 长江亦周;稻濑阳介;菅原卓哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;张印铎 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请公开一种溅射成膜装置，包括：具有排气机构的真空容器；基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部并且在空间上相互分离的溅射区域和反应区域；所述溅射区域被配置为通过溅射靶材在基板上形成溅射物质；所述反应区域被配置为导入两种以上的反应气体并在该反应区域生成等离子体；所述反应区域通过等离子体中的离子与所述溅射物质相互作用形成含有至少四种元素的化合物薄膜。该溅射成膜装置便于形成期望材料的薄膜，并在形成四种元素以上的化合物薄膜时，并不受化合物材料的限制，同时成膜效率较快，具有非常良好的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 及其 方法 化合物 薄膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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