[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201910117700.1 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN109887961A 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 崔颖 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 李华;崔香丹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 提供一种阵列基板,包括:衬底基板;形成于所述衬底基板的平坦化层;形成在所述平坦化层上的多个像素电极;及像素界定层,包括第一像素界定层和第二像素界定层,所述第一像素界定层覆盖所述像素电极外周并露出所述像素电极中央区域,所述第二像素界定层形成于相邻所述像素电极之间的所述平坦化层上、并具有限定各个子像素单元的多个开口;所述第二像素界定层堤部的底部与其相邻的所述第一像素界定层堤部的底部间隔预定距离,且所述第二像素界定层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。还提供该阵列基板的制备方法及包含该阵列基板的显示装置。本发明的阵列基板可以形成更均匀的有机发光层,且有机发光层的边缘没有对应的像素电极,提高了像素内的发光均匀性。
搜索关键词: 像素界定层 阵列基板 像素电极 平坦化层 有机发光层 衬底基板 显示装置 堤部 制备 像素电极中央区域 间隔预定距离 发光均匀性 子像素单元 显示面板 外周 像素 开口 覆盖
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;形成于所述衬底基板的平坦化层;形成在所述平坦化层上的多个像素电极;及像素界定层,包括第一像素界定层和第二像素界定层,所述第一像素界定层覆盖所述像素电极外周并露出所述像素电极中央区域,所述第二像素界定层形成于相邻所述像素电极之间的所述平坦化层上、并具有限定各个子像素单元的多个开口;所述第二像素界定层堤部的底部与其相邻的所述第一像素界定层堤部的底部间隔预定距离,且所述第二像素界定层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。
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