[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

说明书

提供一种阵列基板，包括：衬底基板；形成于所述衬底基板的平坦化层；形成在所述平坦化层上的多个像素电极；及像素界定层，包括第一像素界定层和第二像素界定层，所述第一像素界定层覆盖所述像素电极外周并露出所述像素电极中央区域，所述第二像素界定层形成于相邻所述像素电极之间的所述平坦化层上、并具有限定各个子像素单元的多个开口；所述第二像素界定层堤部的底部与其相邻的所述第一像素界定层堤部的底部间隔预定距离，且所述第二像素界定层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。还提供该阵列基板的制备方法及包含该阵列基板的显示装置。本发明的阵列基板可以形成更均匀的有机发光层，且有机发光层的边缘没有对应的像素电极，提高了像素内的发光均匀性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

喷墨打印聚合物电致发光显示(PLED)技术具有操作简单、成本低廉、及工艺简单、易于实现大尺寸等优点，随着高性能聚合物材料的不断研发和薄膜制备技术的进一步完善，PLED技术有望快速实现产业化。

喷墨打印技术是通过微米级的打印喷头将空穴注入材料，空穴注入材料，以及红、绿、蓝三色发光材料的溶液分别喷涂在预先已经图案化了的ITO衬底上的子像素坑中，形成红绿蓝三基色发光像素单元。膜层的厚度由打印在像素内的溶质数量决定。由于这种方法能极大地节省昂贵的发光材料，而且通过使用有多个喷射口的喷头打印(128或256个喷射口)可以大幅缩短制膜时间，因此，喷墨打印彩色图案化技术在PLED制造领域已被确认为向产业化发展的主流技术。

在喷墨打印干燥成膜过程中，溶剂蒸汽在液滴边缘区域挥发较快，这样会造成液滴由中心向边缘的溶液流动，这种流动会带动溶质向液滴边缘迁移，并最终在边缘沉积，而形成边缘厚中心薄的沉积形貌，称为“咖啡环效应”，从而使得像素内成膜很不均匀，这样会导致器件发光不均。

发明内容

为了克服上述缺陷，本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

本发明一方面提供一种阵列基板，包括：衬底基板；形成于所述衬底基板的平坦化层；形成在所述平坦化层上的多个像素电极；及像素界定层，包括第一像素界定层和第二像素界定层，所述第一像素界定层覆盖所述像素电极外周并露出所述像素电极中央区域，所述第二像素界定层形成于相邻所述像素电极之间的所述平坦化层上、并具有限定各个子像素单元的多个开口；所述第二像素界定层堤部的底部与其相邻的所述第一像素界定层堤部的底部间隔预定距离，且所述第二像素界定层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。

根据本发明的一实施方式，所述第一像素界定层的厚度为100-500纳米，所述第二像素界定层的厚度为1-3微米。

根据本发明的另一实施方式，所述第一像素界定层覆盖所述像素电极外周的宽度为1-10微米。

根据本发明的另一实施方式，所述第一像素界定层包括氮化硅、氧化硅中的一种或多种。

根据本发明的另一实施方式，所述第二像素界定层包括光阻材料。

本发明另一方面提供一种显示面板，包括上述任一阵列基板。

根据本发明的一实施方式，所述第二像素界定层的多个开口形成有各个子像素单元的有机发光层，所述有机发光层的厚度大于所述第一像素界定层的厚度。

本发明另一方面还提供一种显示装置，包括上述任一显示面板。