[发明专利]根据PVT操作条件的变化优化电路性能的芯片设计方法在审

专利信息
申请号: 201910088801.0 申请日: 2019-01-30
公开(公告)号: CN110134979A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 金智娟;黄殷珠 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邵亚丽
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种设计具有集成电路的芯片的方法。该方法包括:获得关于形成集成电路的多个单元和多个连线的根据工艺、电压和温度(PVT)端角变化的增量单元延迟和增量连线延迟;通过使用增量单元延迟和增量连线延迟,分析关于根据集成电路中的多个路径的PVT端角变化的延迟的灵敏度;基于分析的结果确定所述多个路径当中的N个灵敏度关键路径,其中N是大于或等于0的整数;以及基于确定的结果执行工程变更命令(ECO)。
搜索关键词: 延迟 连线 集成电路 增量单元 灵敏度 端角 工程变更命令 关键路径 结果确定 芯片设计 优化电路 分析 芯片
【主权项】:
1.一种设计具有集成电路的芯片的方法,所述方法包括:获得关于形成集成电路的多个单元和多个连线的根据工艺、电压和温度PVT端角变化的增量单元延迟和增量连线延迟;通过使用增量单元延迟和增量连线延迟,分析关于根据集成电路中的多个路径的PVT端角变化的延迟的灵敏度;基于分析的结果确定所述多个路径当中的N个灵敏度关键路径,其中N是大于或等于0的整数;以及基于确定的结果执行工程变更命令ECO。
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