[发明专利]光掩模的制造方法、检查方法和检查装置

摘要

提供光掩模的制造方法、检查方法和检查装置，能够提高形成在被转印体上的图案的坐标精度。光掩模的制造方法具有以下工序：准备图案设计数据(A)；获得表示由于将光掩模保持到曝光装置而引起的主表面的变形量、且是除了自重挠曲成分以外的变形量的转印面修正数据(D)；获得表示在将光掩模坯体载置到了描绘装置的工作台上的状态下的、主表面的高度分布的描绘时高度分布数据(E)；通过描绘时高度分布数据(E)与转印面修正数据(D)的差分获得描绘差分数据(F)；计算与描绘差分数据(F)对应的坐标偏差量，求出描绘用坐标偏差量数据(G)；以及采用描绘用坐标偏差量数据(G)和图案设计数据(A)，在光掩模坯体进行描绘的描绘工序。

主权项

1.一种光掩模的检查方法，该光掩模用于制造显示装置，使用检查装置对光掩模进行检查，该光掩模在基板的主表面上具有对薄膜进行图案形成而成的转印用图案，其中，所述光掩模的检查方法具有：在将所述光掩模载置到了所述检查装置的工作台上的状态下，进行形成在所述主表面上的图案的坐标测量，从而获得图案坐标数据(L)的工序；通过测量所述主表面的表面形状获得基板表面形状数据(B)的工序；在将所述光掩模保持在曝光装置内时，在所述主表面上确定被保持部件保持的多个保持点，在根据所述保持部件的形状使所述多个保持点移位时，将所述表面形状所产生的移位反映到所述基板表面形状数据(B)中，从而获得转印面形状数据(C)的工序；从所述转印面形状数据(C)中去除所述基板被所述保持部件保持的姿势中的自重挠曲成分，从而获得转印面修正数据(D)的工序；在以所述主表面处于上侧的方式将所述光掩模载置到了所述检查装置的工作台上的状态下，测量所述主表面的高度分布，从而获得检查时高度分布数据(I)的工序；通过求出所述检查时高度分布数据(I)与所述转印面修正数据(D)的差分，获得检查差分数据(J)的工序；计算与所述检查差分数据(J)对应的、所述主表面上的多个点处的坐标偏差量，从而求出检查用坐标偏差量数据(K)的工序；以及使用所述检查用坐标偏差量数据(K)和所述图案坐标数据(L)，进行所述转印用图案的检查的工序。