[发明专利]一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统有效
| 申请号： | 201910041187.2 | 申请日： | 2019-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN109655300B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 姚阳;王志强;杨凡;代科;郑小龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01M99/00 | 分类号： | G01M99/00;G05F7/00;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统。用以解决相关技术中通过经验对磁板的吸附力进行调节使得对位不准确，以及通过蒸镀试验对磁板的吸附力进行调节浪费试验基板，增加成本的问题。一种模拟蒸镀的试验装置，包括：支撑结构，通过支撑结构依次支撑的金属掩膜版和试验基板，试验基板的上方还设置有磁板，金属掩膜版的下方设置有可移动发光组件，可移动发光组件用于模拟蒸镀线源，在移动过程中将所发出的线光源透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上；试验基板和所述磁板之间还设置有感光装置，感光装置用于对透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上形成的模拟图案的位置进行采集。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模拟 试验装置 试验 系统 | ||
【主权项】：
1.一种模拟蒸镀的试验装置，其特征在于，包括：支撑结构，通过所述支撑结构支撑的金属掩膜版和试验基板，所述试验基板可透光，所述支撑结构支撑在所述金属掩膜版和试验基板的边缘位置处；所述金属掩膜版设置在所述试验基板的下方，所述试验基板的上方还设置有磁板，所述磁板用于对所述金属掩膜版施加吸附力，以对所述试验基板进行支撑；所述金属掩膜版的下方设置有可移动发光组件，所述可移动发光组件用于模拟蒸镀线源，在移动过程中将所发出的线光源透过所述金属掩膜版上的开口照射到所述试验基板上；所述试验基板和所述磁板之间还设置有感光装置，所述感光装置用于对所述可移动发光组件在移动过程中将发出的线光源透过所述金属掩膜版上的开口照射到试验基板上形成的模拟图案的位置进行采集。
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