[发明专利]一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统

说明书

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统。用以解决相关技术中通过经验对磁板的吸附力进行调节使得对位不准确，以及通过蒸镀试验对磁板的吸附力进行调节浪费试验基板，增加成本的问题。一种模拟蒸镀的试验装置，包括：支撑结构，通过支撑结构依次支撑的金属掩膜版和试验基板，试验基板的上方还设置有磁板，金属掩膜版的下方设置有可移动发光组件，可移动发光组件用于模拟蒸镀线源，在移动过程中将所发出的线光源透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上；试验基板和所述磁板之间还设置有感光装置，感光装置用于对透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上形成的模拟图案的位置进行采集。

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统。

背景技术

在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示面板蒸镀过程中，通过真空蒸镀方式进行分子沉积，并通过金属掩膜版在待蒸镀基板上形成所需的图案(Pattern)。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统，用以解决相关技术中蒸镀时通过经验对磁板的吸附力进行调节使得对位不准确，以及通过蒸镀试验对磁板的吸附力进行调节浪费试验基板，增加成本的问题。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供一种模拟蒸镀的试验装置，包括：支撑结构，通过所述支撑结构支撑的金属掩膜版和试验基板，所述试验基板可透光，所述支撑结构支撑在所述金属掩膜版和试验基板的边缘位置处；所述金属掩膜版设置在所述试验基板的下方，所述试验基板的上方还设置有磁板，所述磁板用于对所述金属掩膜版施加吸附力，以对所述试验基板进行支撑；所述金属掩膜版的下方设置有可移动发光组件，所述可移动发光组件用于模拟蒸镀线源，在移动过程中将所发出的线光源透过所述金属掩膜版上的开口照射到所述试验基板上；所述试验基板和所述磁板之间还设置有感光装置，所述感光装置用于对所述可移动发光组件在移动过程中将发出的线光源透过所述金属掩膜版上的开口照射到试验基板上形成的模拟图案的位置进行采集。

可选的，所述磁板包括多块电磁铁，所述多块电磁铁分布在所述试验基板上方的不同位置处；所述试验装置还包括电流调节装置，所述电流调节装置与所述多块电磁铁连接，所述电流调节装置用于对通入每一块所述电磁铁的电流进行调节，以对所述磁板作用在所述金属掩膜版上的吸附力进行调节。

可选的，所述金属掩膜版包括框架和多个子掩膜版，所述框架相对于所述试验基板固定，所述多个子掩膜版相对于所述框架的位置可调；所述试验装置还包括位置调节装置，所述位置调节装置与每个所述子掩膜版的两端连接，用于对作用在每个所述子掩膜版上的拉伸力进行调节，并带动每个所述子掩膜版沿其延伸方向以及与其延伸方向垂直的方向发生位移，对每个所述子掩膜版的位置进行调节。

可选的，所述支撑结构包括机台和设置在所述机台边缘的立柱，所述金属掩膜版和试验基板支撑在所述立柱上，所述机台包括一水平承载面，多个所述立柱的上端面所在的平面与所述水平承载面平行；所述可移动发光组件包括设置在所述水平承载面上的长条形壳体，以及设置在所述长条形壳体中的多个点光源，多个所述点光源沿所述长条形壳体的长度方向排列成长条形，所述长条形壳体上开设有与所述点光源一一对应的出光口，每个所述出光口的口径和倾角与所述蒸镀线源中的喷嘴的口径和倾角一致；所述长条形壳体与所述水平承载面滑动连接，且所述长条形壳体的滑动方向与所述长条形壳体的长度方向垂直。

可选的，所述感光装置为长条形CCD感光镜头；所述长条形CCD感光镜头的两端分别与设置在所述试验基板相对两侧的导轨滑动连接，所述长条形CCD感光镜头的扫描面积至少覆盖所述试验基板所在区域的面积。

可选的，还包括下垂检测模块，所述下垂检测模块用于对所述试验基板的下垂量进行检测。