[发明专利]基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法有效
| 申请号： | 201910023308.0 | 申请日： | 2019-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN109740556B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 岳阳;舒适;徐传祥;于勇;李翔;杨桐;黄敏;黄海涛;姚琪;宋晓欣 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00;G06K9/20 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块及其制备方法，所述指纹识别模块包括：指纹识别传感器阵列，以及还包括：设置于指纹识别传感器阵列上、用于准直光取出的光学结构；其中，所述光学结构包括：上、下层纳米光栅层，以及设置在所述上、下层纳米光栅层之间的聚合物分散液晶PDLC层。应用本发明可以简化工艺流程、减小指纹识别模块的厚度，避免Miss‑align问题，且可以提高指纹识别精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 准直光 取出 光学 结构 指纹识别 模块 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于准直光取出的光学结构的指纹识别模块，包括：指纹识别传感器阵列，其特征在于，还包括：设置于指纹识别传感器阵列上、用于准直光取出的光学结构；其中，所述光学结构包括：上、下层纳米光栅层，以及设置在所述上、下层纳米光栅层之间的聚合物分散液晶PDLC层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910023308.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
