[发明专利]光刻用膜形成用组合物、光刻用膜、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法在审
| 申请号： | 201880074961.3 | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN111373326A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 牧野岛高史;越后雅敏;三树泰 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G10/02;C08G10/04;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的光刻用膜形成用组合物包含选自由如下树脂组成的组中的至少1种：具有取代或无取代的苯环的芳香族烃与甲醛的缩合反应物即芳香族烃甲醛树脂、和将前述芳香族烃甲醛树脂改性而成的改性芳香族烃甲醛树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 形成 组合 图案 方法 电路 | ||
【主权项】：
暂无信息
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