[发明专利]用于合成碳纳米管的方法和装置在审
申请号: | 201880068809.4 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN111373073A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | C·V·恩固因 | 申请(专利权)人: | 恩瑟玛公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/452 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 丁靄迪;翟羽 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文提供了用于生产具有高结构均匀性和低杂质水平的碳纳米管(CNT)的方法和装置。该装置包括,例如,用于在衬底上沉积催化剂的模块,用于形成CNT的模块,用于从衬底分离CNT的模块,用于收集CNT的模块以及用于连续且顺序地推进衬底通过上述模块的模块。该方法包括,例如,在移动的衬底上沉积催化剂,在衬底上形成碳纳米管,从衬底分离碳纳米管,以及从表面收集碳纳米管的步骤,其中衬底顺序移动通过沉积、形成、分离和收集步骤。 | ||
搜索关键词: | 用于 合成 纳米 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的